一、 前言 過氧化氫在半導體行業起到非常關鍵的作用， 常常作為矽片清潔劑， 印刷電路板刻蝕劑以及處理金屬 雜質。本次實驗采用 JH-T7全自動電位滴定儀依據 GB/T 1616-2014 工業過氧化氫測定，測定某半導體上遊 廠家的工業藥水中過氧化氫的含量， 用以驗證電位滴定法檢測工業藥水中的過氧化氫方法是否可行。 二、儀器與試劑 2.1、儀器 JH-T7全自動電位滴定儀， 複合鉑電極， 容量瓶， 分析天平等 2.2、試劑 c=0.1mol/L 的 KMnO4 標準滴定液， 硫酸溶液（20%） ， 去離子水 三、 實驗方法 3.1、實驗過程 用減重稱量法準確稱取 1g 試樣（精確至 0.0001g)於滴定杯中，加入 50mL 去離子水，再加入 10mL20% 的硫酸溶液， 放置於滴定台上， 啟動事先編輯好的方法， 用高錳酸鉀滴定液進行滴定， 同時做空白實驗。 3.2、儀器參數如表所示： 表 1 過氧化氫測定滴定儀參數設置 滴定類型： | 動態滴定 | 方法名： | 高錳酸鉀滴定過氧化氫 | 滴定管體積： | 10mL | 樣品計量單位： | g | 工作電極： | 複合鉑電極 | 參比電極： | 無 | 攪拌速度： | 7 | 預攪拌時間： | 5s | 電極平衡時間： | 4s | 電極平衡電位： | 1mv | 滴定速度： | 標準 | 滴定前平衡電位： | 6mv | 每次添加體積： | 0.02mL | 結束體積： | 20mL | 電位突躍量： | 3500 | 相關係數： | 1.701 | 滴定劑名稱： | 高錳酸鉀 | 理論濃度： | 0.1 |
四、結果與討論 4.1、實驗結果 樣品經測試， 得到實驗結果如表 2 所示： 表 2 過氧化氫含量測定 樣品名稱 | 取樣量 （g） | c(KMnO4)/ mol/L | 滴定樣品 體積 V1/mL | 滴定空白體 積 V2/mL | 過氧化氫 含量（%） | 平均值 (%) | RSD(%) | 0 | 1.7027 | 0.10502 | 3.550 | 0.02 | 0.3704 | 0.3696 | 0.2035 | 1.5564 | 3.240 | 0.3696 | 1.7120 | 3.555 | 0.3689 | 40 | 1.25508 | 2.610 | 0.3686 | 0.3642 | 1.069 | 1.22858 | 2.505 | 0.3613 | 1.2633 | 2.584 | 0.3626 | 98 | 1.07280 | 3.298 | 0.5458 | 0.5497 | 0.6222 | 1.05984 | 3.295 | 0.5520 | 1.17048 | 3.633 | 0.5514 | 100 | 1.05133 | 3.326 | 0.5617 | 0.5621 | 1.025 |
| 1.09510 |
| 3.432 |
| 0.5566 |
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| 1.06760 | 3.415 | 0.5681 | 150 | 1.16444 | 4.170 | 0.6367 | 0.6426 | 0.8119 | 1.16517 | 4.225 | 0.6447 | 1.23868 | 4.503 | 0.6465 |
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